[发明专利]真空处理装置有效

专利信息
申请号: 201580001457.7 申请日: 2015-01-30
公开(公告)号: CN106029214B 公开(公告)日: 2018-01-30
发明(设计)人: 小川芳文;角谷匡规;矶崎真一;布村畅英 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: B01J3/02 分类号: B01J3/02;C23C16/455;C23F4/00;F15B11/06;F16K51/02;H01L21/3065
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 王亚爱
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种具备具有一对气阀的硬件互锁的气体供给单元的真空处理装置。本发明的真空处理装置具备气体供给部,该气体供给部使用常闭型的空气驱动阀来将用于进行真空处理的气体供给到进行所述真空处理的处理室中,该真空处理装置的特征在于,所述气体供给部具有在一对所述空气驱动阀中的一方开启的情况下一对所述空气驱动阀中的另一方关闭的互锁功能,且具备对用于驱动所述空气驱动阀的空气进行控制的空气电路,使用具有与一对所述空气驱动阀分别对应的螺线管的电磁阀来构成所述空气电路。
搜索关键词: 真空 处理 装置
【主权项】:
一种真空处理装置,具备气体供给部,该气体供给部使用常闭型的空气驱动阀来将用于进行真空处理的气体供给到进行所述真空处理的处理室中,所述真空处理装置的特征在于,所述气体供给部具备对用于驱动所述空气驱动阀的空气进行控制的空气电路,通过所述空气电路,在一对所述空气驱动阀中的一方开启的情况下,使一对所述空气驱动阀中的另一方关闭,使用三位弹簧复位中心排气型五口电磁阀来构成所述空气电路,该三位弹簧复位中心排气型五口电磁阀具有与一对所述空气驱动阀分别对应的螺线管。
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