[发明专利]阻挡膜及制备该阻挡膜的方法有效
| 申请号： | 201580001838.5 | 申请日： | 2015-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN105579228B | 公开（公告）日： | 2017-06-09 |
| 发明（设计）人： | 黄樯渊;金东烈 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;B32B7/02 |
| 代理公司： | 北京金信知识产权代理有限公司11225 | 代理人： | 朱梅,李海明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种阻挡膜和制备该阻挡膜的方法，提供了一种用于有机或无机光致发光体、显示设备和太阳能发电元件等的阻挡膜，以有效阻挡化学物质，如湿气和氧，因而保护了内部的电子元件，并保持了优异的光学特性。 | ||
| 搜索关键词： | 阻挡 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种满足通式1的阻挡膜，依序包括：基底层、第一电介质层、具有1.85以上的折射率的无机层和第二电介质层，其中所述第一电介质层具有100nm以上的厚度，且所述第二电介质层的厚度等于或小于所述第一电介质层的厚度，以及其中，根据ASTM E313的黄度指数为‑2.0至2.0：[通式1]n2≤n1<ni通式1中，n1代表所述第一电介质层的折射率，n2代表所述第二电介质层的折射率，以及ni代表所述无机层的折射率。
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