[发明专利]防伪介质以及防伪介质的制造方法有效

专利信息
申请号: 201580002372.0 申请日: 2015-03-26
公开(公告)号: CN105682934B 公开(公告)日: 2018-01-09
发明(设计)人: 大川美保子;落合英树;市川浩二;小手川雄树 申请(专利权)人: 凸版印刷株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/1335;G02B5/02;G02B5/32;B42D25/40
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 何立波,张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 防伪介质具有记录介质和在记录介质上的一部分处配置的偏光面层。在偏光面层上利用低消光比区域而形成图像,该低消光比区域是与偏光面层中的除了低消光比区域以外的部分相比,偏光面的消光比低的区域。在记录介质上利用记录介质的一部分而形成图像,该记录介质的一部分是与记录介质中的除了一部分以外的部分性质不同的部分。
搜索关键词: 防伪 介质 以及 制造 方法
【主权项】:
一种防伪介质,其具有:记录介质;以及偏光面层,其配置在所述记录介质上的一部分,在所述偏光面层上利用低消光比区域而形成图像,所述低消光比区域是与所述偏光面层中的除了所述低消光比区域以外的部分相比,偏光面的消光比低的区域,在所述记录介质上利用所述记录介质的一部分而形成图像,所述记录介质的一部分是与所述记录介质中的除了所述一部分以外的部分性质不同的部分,在所述偏光面层所形成的所述图像,记录有与在所述记录介质所形成的所述图像中记录的信息相关联的信息,在所述偏光面层所形成的所述图像和在所述记录介质所形成的所述图像被连续地形成。
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