[发明专利]成像装置和方法有效
| 申请号： | 201580002726.1 | 申请日： | 2015-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN105764422B | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | T·克勒;R·普罗克绍;B·J·布伦德尔;E·勒斯尔 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 李光颖;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种成像装置和对应的成像方法。为了避免探测单元中的堆积效应的缺点，提出了一种成像装置，其包括：辐射源(2)，其用于将辐射从聚焦区(20)发射通过成像区域(5)；探测单元(6)，其用于探测来自所述成像区域(5)的辐射，所述探测单元包括防散射光栅(62)和探测器(61)；机架(1)，所述辐射源(2)和所述探测单元(6)被安装到所述机架，并且所述机架允许所述辐射源(2)和所述探测单元(6)围绕所述成像区域旋转；以及控制器(9)，其用于控制所述探测单元(6)以在围绕所述成像区域旋转期间在多个投影位置处探测辐射，并且用于操纵所述辐射源(2)和/或所述探测单元(6)的至少部分在第一投影位置(80)处的位置、设定和/或取向，使得与表示剩余投影位置的第二投影位置(80)相比，在所述第一投影位置处入射在所述探测器(61)上的辐射在更大程度上被所述防散射光栅(62)衰减。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种成像装置，包括：辐射源(2)，其用于将辐射从聚焦区(20)发射通过成像区域(5)，探测单元(6)，其用于探测来自所述成像区域(5)的辐射，所述探测单元包括防散射光栅(62)和探测器(61)，机架(1)，所述辐射源(2)和所述探测单元(6)被安装到所述机架，并且所述机架允许所述辐射源(2)和所述探测单元(6)围绕所述成像区域旋转，以及控制器(9)，其用于控制所述探测单元(6)以在围绕所述成像区域旋转期间在多个投影位置处探测辐射，其特征在于，所述控制器适于操纵所述辐射源(2)和/或所述探测单元(6)的至少部分在第一投影位置(80)处的位置、设定和/或取向，使得与表示剩余投影位置的第二投影位置(81)相比，在所述第一投影位置处入射在所述探测器(61)上的辐射在更大程度上被所述防散射光栅(62)衰减。
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