[发明专利]气体阻隔性膜及含有其的电子器件在审
| 申请号： | 201580003895.7 | 申请日： | 2015-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN105899361A | 公开（公告）日： | 2016-08-24 |
| 发明（设计）人： | 小渊礼子 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/34 | 分类号： | B32B27/34;B32B9/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供可以适合应用于器件形成工序的气体阻隔性膜。气体阻隔性膜，其具有聚酰亚胺基材、和含有聚硅氮烷改性物质的气体阻隔层，上述聚酰亚胺基材及上述气体阻隔层的粘接强度为1.3N/cm以上。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 阻隔 含有 电子器件 | ||
【主权项】：
一种气体阻隔性膜，其具有聚酰亚胺基材、和含有聚硅氮烷改性物质的气体阻隔层，所述聚酰亚胺基材和所述气体阻隔层的粘接强度为1.3N/cm以上。
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