[发明专利]射束聚焦和射束收集光学器件

摘要

一种反射型光学器件系统(RFO)，优选地需要具有射束反射表面的凸面(M3)和凹面(M4)反射镜的存在，其应用实现了将电磁辐射的射束聚焦到样本(OB)上，(其可以沿着与入射射束(IB)的轨迹不同的轨迹)，基于来自于所涉及的各个反射镜(M1)(M2)(M3)(M4)的经调整的入射角和反射角，偏振状态对输入射束的偏振状态具有最小化的影响。

主权项

一种用于将电磁辐射的聚焦射束(FB)提供到样本(SAM)上的位置的系统，所述系统是反射型光学器件系统(RFO)，依次包括第一反射镜(M1)、第二反射镜(M2)、第三反射镜(M3)和第四反射镜(M4)，所述第一反射镜(M1)、所述第二反射镜(M2)、所述第三反射镜(M3)和所述第四反射镜(M4)当中每一个都提供反射表面，其中所述第三反射镜(M3)和第四反射镜(M4)分别提供凸面反射表面和凹面反射表面；使得，在使用当中，具有特定偏振状态的电磁辐射的输入射束(IB)被朝所述第一反射镜(M1)指引并且从所述第一反射镜的反射表面反射，使得第一入射平面(P1)形成在所述输入射束(IB)与从所述第一反射镜(M1)的反射表面反射的射束之间；并且使得从所述第一反射镜(M1)的反射表面反射的射束被朝所述第二反射镜(M2)指引并且从所述第二反射镜的反射表面朝所述第三反射镜(M3)反射，该射束被从所述第三反射镜在所述第三反射镜上偏离中心的位置朝所述第四反射镜(M4)反射，该射束被从所述第四反射镜由所述第四反射镜的反射表面朝所述样本(SAM)反射，作为聚焦的输出射束(OB)；从所述第三反射镜(M3)的反射表面反射的射束和从所述第四反射镜(M4)的反射表面反射的射束形成第二入射平面(P2)，所述第一入射平面(P1)和所述第二入射平面(P2)基本上彼此正交；来自所述第一反射镜(M1)、所述第二反射镜(M2)、所述第三反射镜(M3)和所述第四反射镜(M4)的反射表面的四个反射的影响是基本上最小化了所有所述反射对所述输入射束的特定偏振状态的影响，指引所述输出射束(OB)并将其作为聚焦射束(FB)在其撞击到所述样本上的点处提供到所述样本(SAM)上。