[发明专利]高度检测装置、涂布装置及高度检测方法有效
申请号: | 201580004131.X | 申请日: | 2015-01-09 |
公开(公告)号: | CN105899909B | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
发明(设计)人: | 大庭博明 | 申请(专利权)人: | NTN株式会社 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;G01B11/30;G02F1/1335 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 韩俊 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 高度检测部在使凹凸部和物镜沿上下方向发生相对移动的同时对图像进行拍摄,基于针对构成所拍摄的图像的多个像素的每一个求出的焦点位置,来对凹凸部的高度进行检测。高度检测部执行第一阶段的处理和第二阶段的处理,其中:在所述第一阶段的处理中,在摄像装置的拍摄周期内,针对构成拍摄的图像的多个像素的每一个,将拍摄的图像的亮度最大的定位装置的位置设为焦点的候选位置;在所述第二阶段的处理中,在摄像装置对全部的图像进行拍摄后,针对构成在通过第一阶段的处理求出的焦点的候选位置的前后拍摄到的图像的多个像素的每一个,以在前后拍摄到的图像的多个亮度为基础求出对比度,基于该对比度求出焦点位置,并基于该焦点位置来对凹凸部的高度进行检测。 | ||
搜索关键词: | 高度 检测 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种高度检测装置,对形成在对象物的表面上的凹凸部的高度进行检测,其特征在于,包括:头部,该头部具有照明装置、物镜、观察光学系统及摄像装置,其中,所述照明装置输出白光,所述物镜将从所述照明装置射出的白光分成两个光束,将一方的光束照射到对象物表面并且将另一方的光束照射到参照面,使从所述对象物表面和所述参照面反射的反射光发生干涉,来获得干涉光,所述观察光学系统对所述干涉光进行观察,所述摄像装置经由所述观察光学系统对所述干涉光进行拍摄;定位装置,该定位装置使所述头部或所述物镜与所述对象物发生相对移动;以及高度检测部,该高度检测部对所述定位装置及所述摄像装置进行控制,一边使所述凹凸部与所述头部或所述物镜沿上下方向相对移动,一边对图像进行拍摄,针对构成所拍摄的图像的多个像素的每一个求出焦点位置,并基于所求出的焦点位置对所述凹凸部的高度进行检测,所述高度检测部执行第一阶段的处理和第二阶段的处理,其中:在所述第一阶段的处理中,在所述摄像装置的拍摄周期内,针对构成拍摄的所述图像的多个像素的每一个,将拍摄的所述图像的亮度最大的所述定位装置的位置设为焦点的候选位置;在所述第二阶段的处理中,在所述摄像装置对全部的图像进行拍摄后,针对构成图像的多个像素的每一个,以在通过所述第一阶段的处理求得的所述焦点的候选位置的前后拍摄到的图像的多个亮度为基础求出对比度,基于所述对比度来求出焦点位置,并基于所述焦点位置来对所述凹凸部的高度进行检测,所述高度检测部在所述第二阶段的处理中将所述对比度为峰值时的所述定位装置的位置设为所述像素的焦点位置,所述高度检测部在所述第二阶段的处理中进行如下动作:将所述对比度为峰值时的所述定位装置的位置设为一次高度,然后,以在通过所述第一阶段的处理求得的所述焦点的候选位置附近的图像的所述亮度为基础求出相位,并将相位为0的多个所述定位装置的位置中、最靠近所述一次高度的相位为0的所述定位装置的位置设为二次高度,然后,将所述一次高度与所述二次高度进行比较,来检测相位跃变的产生,在检测出相位跃变的情况下,对所述二次高度进行修正,来检测相位跃变得到修正后的三次高度。
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