[发明专利]真空吸附装置在审
| 申请号： | 201580004173.3 | 申请日： | 2015-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN105899822A | 公开（公告）日： | 2016-08-24 |
| 发明（设计）人： | 具弘植 | 申请（专利权）人： | 具弘植 |
| 主分类号： | F16B47/00 | 分类号： | F16B47/00 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 姜虎;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开一种真空吸附装置。本发明的真空吸附装置包括：吸附部件，通过形成在内部的真空室而真空吸附于被吸附面上；调节部件，与吸附部件结合，以形成真空室，其中，吸附部件包括：第一硬质部，与调节部件结合，其位置能够通过调节部件上升；变形部，可改变形状，且一端部结合于第一硬质部的端部；第二硬质部，位于第一硬质部的外侧，并结合于变形部的另一端部，以支撑变形部。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 吸附 装置 | ||
【主权项】：
一种真空吸附装置，其特征在于，包括：吸附部件，通过形成在内部的真空室而真空吸附于被吸附面上；调节部件，与所述吸附部件结合，以形成所述真空室，其中，所述吸附部件包括：第一硬质部，与所述调节部件结合，其位置能够通过所述调节部件上升；变形部，可改变形状，且一端部结合于所述第一硬质部的端部；第二硬质部，位于所述第一硬质部的外侧，并结合于所述变形部的另一端部，以支撑所述变形部。
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