[发明专利]具有布局可改变的触发电压的ESD箝位电路在审

专利信息
申请号: 201580004688.3 申请日: 2015-01-15
公开(公告)号: CN105917467A 公开(公告)日: 2016-08-31
发明(设计)人: 李星权;罗杰·贝特曼;赛·普拉杉瑟·德哈那吉;胡唐;莱奥·F·卢克特;伊曼·热赞恩扎德·加塔比;安德鲁·沃克 申请(专利权)人: 赛普拉斯半导体公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H02H9/00;H01L23/60
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 张瑞;郑霞
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: ESD设备包括栅极和与栅极隔离并至少部分地在n阱区内形成的n漏极区,n阱区又至少部分地在深n阱区内形成。n漏极区、n阱区和深n阱区的掺杂水平是降序的。ESD设备具有高于它的被保护电路的操作电压的触发和保持电压,其通过改变在n漏极和n阱区的侧边缘之间的距离是布局可配置的。
搜索关键词: 具有 布局 改变 触发 电压 esd 箝位 电路
【主权项】:
一种设备,包括:至少一个n沟道金属氧化物半导体(MOS)晶体管,其在轻掺杂p衬底上形成,包括:栅极,重掺杂n漏极区,其与所述栅极隔离并至少部分地在中等掺杂n阱区内形成,其中所述中等掺杂n阱区至少部分地在轻掺杂深n阱区内形成,其中所述n漏极区、所述n阱区和所述深n阱区的掺杂水平是降序的,以及重掺杂n源极区;以及重掺杂p集电极区,其与所述重掺杂n源极区间隔开,其中所述重掺杂n源极区和所述重掺杂p集电极区至少部分地在中等掺杂p阱区内形成。
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