[发明专利]具有布局可改变的触发电压的ESD箝位电路在审
申请号: | 201580004688.3 | 申请日: | 2015-01-15 |
公开(公告)号: | CN105917467A | 公开(公告)日: | 2016-08-31 |
发明(设计)人: | 李星权;罗杰·贝特曼;赛·普拉杉瑟·德哈那吉;胡唐;莱奥·F·卢克特;伊曼·热赞恩扎德·加塔比;安德鲁·沃克 | 申请(专利权)人: | 赛普拉斯半导体公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H02H9/00;H01L23/60 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 张瑞;郑霞 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | ESD设备包括栅极和与栅极隔离并至少部分地在n阱区内形成的n漏极区,n阱区又至少部分地在深n阱区内形成。n漏极区、n阱区和深n阱区的掺杂水平是降序的。ESD设备具有高于它的被保护电路的操作电压的触发和保持电压,其通过改变在n漏极和n阱区的侧边缘之间的距离是布局可配置的。 | ||
搜索关键词: | 具有 布局 改变 触发 电压 esd 箝位 电路 | ||
【主权项】:
一种设备,包括:至少一个n沟道金属氧化物半导体(MOS)晶体管,其在轻掺杂p衬底上形成,包括:栅极,重掺杂n漏极区,其与所述栅极隔离并至少部分地在中等掺杂n阱区内形成,其中所述中等掺杂n阱区至少部分地在轻掺杂深n阱区内形成,其中所述n漏极区、所述n阱区和所述深n阱区的掺杂水平是降序的,以及重掺杂n源极区;以及重掺杂p集电极区,其与所述重掺杂n源极区间隔开,其中所述重掺杂n源极区和所述重掺杂p集电极区至少部分地在中等掺杂p阱区内形成。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
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