[发明专利]净化装置以及净化方法有效
申请号: | 201580005110.X | 申请日: | 2015-03-09 |
公开(公告)号: | CN105917458B | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 村田正直;山路孝 | 申请(专利权)人: | 村田机械株式会社 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/673 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 徐冰冰;刘杰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 净化装置(30)具备:调整在供给管(31)中朝收纳容器供给的净化气体的供给流量的供给流量调整部(35、41);以及调整在排出管(33)中从收纳容器的内部吸气的净化气体的吸气流量以使得收纳容器的内部(54)的压力相对于收纳容器的外部不会成为负压的吸气流量调整部(37、42),供给流量调整部能够以第1流量(f1)以及比第1流量大的流量即第2流量(f2)至少两个阶段调整供给流量,吸气流量调整部在供给流量为第1流量的情况下使吸气流量为零。 | ||
搜索关键词: | 净化 装置 以及 方法 | ||
【主权项】:
1.一种净化装置,利用净化气体对收纳有被收纳物的收纳容器的内部进行净化处理,具备:供给管,通过与上述收纳容器连接而朝上述收纳容器供给上述净化气体;供给流量调整部,调整在上述供给管中朝上述收纳容器供给的上述净化气体的供给流量;排出管,通过与上述收纳容器连接而排出上述收纳容器内部的上述净化气体;以及吸气流量调整部,调整在上述排出管中从上述收纳容器的内部吸气的上述净化气体的吸气流量,以使得上述收纳容器的内部的压力相对于上述收纳容器的外部不会成为负压,上述供给流量调整部能够以第1流量以及比上述第1流量大的流量即第2流量至少两个阶段进行上述供给流量的调整,上述吸气流量调整部在上述供给流量为上述第1流量的情况下使上述吸气流量为零,上述第1流量是上述收纳容器的内部的压力相对于上述收纳容器的外部的压力成为负压的流量。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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