[发明专利]用于标定由多晶材料制备的样品的晶体学取向的方法有效

专利信息
申请号: 201580005114.8 申请日: 2015-01-23
公开(公告)号: CN106030294B 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: C·朗格卢瓦 申请(专利权)人: 国立里昂应用科学学院;国家科学研究中心;里昂第一大学
主分类号: G01N23/225 分类号: G01N23/225;G01N21/47;G06T7/40
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种用于标定多晶材料的晶体学取向的方法,所述方法包括:接收(21)多晶材料的一系列图像,这些图像在不同的照射几何下通过获取装置来获取,不同的照射几何比如所述材料的不同倾斜角度,获取装置比如扫描电子显微镜或者聚焦离子束;根据系列图像对材料的至少一个考虑点估算(22)至少一个强度分布,每个强度分布代表与考虑点相关联的强度关于照射几何的函数;以及通过将与每个考虑点相关联的强度分布与已知晶体学取向的理论强度分布特征相比较(23),来确定(24)材料的考虑点的晶体学取向,所述特征包含在数据库中。
搜索关键词: 用于 标定 多晶 材料 制备 样品 晶体学 取向 方法
【主权项】:
一种用于对具有抛光表面的样品(31)的晶体学取向进行标定的方法,所述方法包括:‑接收(21)样品(31)的一系列图像(4a‑4e),这些图像通过适合于将带电粒子束流发射至抛光表面上的获取装置(3)获取,图像(4a‑4e)在不同的样品照射几何下获取,每个图像(4a‑4e)包括代表在各个照射几何下样品的点的强度的像素;‑根据系列图像对材料的至少一个点估算(22)至少一个强度分布,每个强度分布代表与讨论中的点相关联的强度关于照射几何的函数;以及‑通过将与材料的每个讨论中的点相关联的强度分布与已知晶体学取向的强度分布的理论特征相比较(23),来确定(24)所述讨论中的点的晶体学取向,所述特征包含在数据库中。
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