[发明专利]任意基板上的膜厚度的测量

摘要

本公开的实施例使用反射测量实现膜属性(诸如厚度)的测量，而不考虑在基板或基层上的下层图案，因为生长的膜在任何波长上所造成的相移的量与所述基板或所述基层无关。所述方法的一个实施例包括从时间序列数据确定所述基板的属性。所述方法的另一个实施例包括通过分别在光源接通和断开的情况下作出两次连续测量来去除等离子体背景以便测量数据。另一个实施例包括通过监测等离子体标记或光学属性的相移来确定沉积开始时间。

主权项

一种用于测量薄膜的属性的方法，所述方法包括：将具有未知表面的基板定位在处理腔室中；以一时间间隔来重复地测量所述基板的反射光谱，以便获得时间序列数据；使一种或多种处理气体流动以将所述薄膜沉积在所述基板上，同时维持重复的测量；从所述时间序列数据中的多个反射光谱测量来确定所述基板的所述未知表面的一个或多个属性；以及根据所述未知表面的所述一个或多个属性以及所述薄膜的反射光谱测量来确定所述薄膜的厚度。