[发明专利]光/光学辐射的处理装置、设计这种装置的方法和系统有效
| 申请号： | 201580006509.X | 申请日： | 2015-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN106030372B | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | 让-弗朗索瓦·莫里聚尔;纪尧姆·拉布鲁瓦勒;尼古拉斯·特雷普斯 | 申请（专利权）人： | 卡伊拉布斯公司 |
| 主分类号： | G02B26/06 | 分类号： | G02B26/06;G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 谢攀;刘继富 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及用于处理光辐射(108)的装置(100)，装置(100)包括限定多通过腔体(106)的至少两个光学反射元件(102，104)，使得所述光学元件(102，104)中的至少一个在至少两个不同的反射位置处反射所述光辐射(108)至少两次，其特征在于，所述装置包括至少一个被称为校正元件的元件，所述校正元件具有至少一个被称为校正位置的位置，所述校正位置实现所述光学辐射的反射或透射，并且其表面是不规则的，使得所述校正位置(116)的空间相位轮廓对于所述校正位置(116)的多个不同的反射或透射点具有不同的相移。本发明还涉及用于设计这样的装置(100)的方法和系统。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 辐射 处理 装置 设计 这种 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理光辐射(108)的装置(100；200)，包括限定多通过腔体(106)的至少两个光学反射元件(102，104)，使得每个光学反射元件(102，104)反射所述光辐射(108)，所述装置包括至少一个被称为校正元件的元件，包括：‑限定多通过腔体的光学反射元件中的一个；和/或‑被布置在多通过腔体中并且与限定所述多通过腔体的光学反射元件不同的校正元件；至少一个校正元件具有多个被称为校正位置的位置，每个实现所述光辐射的反射或透射，并且其表面是不规则的，使得所述校正位置(116)的空间相位轮廓对于所述校正位置(116)的多个不同的反射/透射点具有不同的相移，并且所述校正位置(116)中的至少两个具有不同的相位轮廓，所述装置的特征在于：光学反射元件中的一个(102)包括平坦的反射表面(112)并且光学反射元件中的另一个(104)包括弯曲的反射表面(114)，限定多通过腔体的至少一个反射元件(104)包括允许使待处理辐射入射到多通过腔体中和/或在处理之后使辐射从所述多通过腔体输出的通孔；‑所述至少两个光学反射元件限定多通过腔体，所述多通过腔体布置成使得所述光辐射(108)在所述两个光学反射元件(102，104)之间进行多次往返，使得每个光学反射元件在不同的反射位置处反射所述光辐射(108)至少四次；‑所述多通过腔体不包括由透镜或偏振元件组成的任何中间光学元件。
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