[发明专利]达格列净新特晶型及其制备方法有效
申请号: | 201580006892.9 | 申请日: | 2015-01-19 |
公开(公告)号: | CN106170482B | 公开(公告)日: | 2018-06-12 |
发明(设计)人: | 朱希风;李孝壁;张添程;袁阜平 | 申请(专利权)人: | 江苏豪森药业集团有限公司 |
主分类号: | C07D309/10 | 分类号: | C07D309/10;A61K31/351;A61P3/10 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;刘彬娜 |
地址: | 222047 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及式(I)所示的达格列净的新晶型,这种晶型在以2θ角度和晶面间距(d值)表示的X‑射线粉末衍射图谱中在约4.318(20.45)处具有特征吸收峰,可以通过将达格列净溶解在良性有机溶剂中,再加入不良溶剂搅拌析晶,过滤,干燥而制得。本发明的达格列净新晶型具有以下优良特性:溶解性好,引湿性小,稳定性高,制备可重现性好。 | ||
搜索关键词: | 达格列净 式( I ) 新晶型 晶型 制备 特征吸收峰 不良溶剂 可重现性 溶解性好 射线粉末 有机溶剂 引湿性 晶面 析晶 衍射 过滤 图谱 溶解 | ||
【主权项】:
一种式(I)所示的达格列净的新晶型,其特征在于:所述晶型的X‑射线粉末衍射图谱如图1所示,在以2θ角度和晶面间距d值表示的X‑射线粉末衍射图谱中,在2θ角度为4.318,d值为20.45处具有特征吸收峰。
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