[发明专利]射束曝光装置有效
| 申请号： | 201580007561.7 | 申请日： | 2015-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN105980933B | 公开（公告）日： | 2018-06-22 |
| 发明（设计）人： | 梶山康一;石川晋;佐藤敬行;桥本和重 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B41J2/447;G02B13/00;G03G15/04 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在使多个光束的射束之间微小偏转的射束曝光装置中均匀地进行多个光束的微小偏转。射束曝光装置(1)具备：光出射部(2)，从多个光出射位置(2a)射出光束(Lb)；扫描部(3)；聚光光学系统(4)，将光束(Lb)的光斑聚光于被曝光面(Ex)；及微小偏转部(5)，将多个光束(Lb)微小偏转以曝光多个光束(Lb)的射束之间。聚光光学系统(4)具备：第1微透镜阵列(41)，配置在光出射部(2a)与微小偏转部(5)之间，并具备多个与光出射位置(2a)对应的微透镜(41M)；及第2微透镜阵列(42)，配置在微小偏转部(5)与被曝光面(Ex)之间，并具备多个与光出射位置(2a)对应的微透镜(42M)。 | ||
| 搜索关键词： | 微小偏转 射束 光出射位置 曝光装置 聚光光学系统 微透镜阵列 光出射部 曝光面 微透镜 射出光束 光斑 聚光 配置 扫描 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种射束曝光装置，其特征在于，具备：光出射部，从沿一方向隔开既定间隔配置的多个光出射位置射出光束；扫描部，使被多个光束曝光的被曝光面与所述光出射部的一方或双方朝向与所述一方向交叉的另一方向相对移动；聚光光学系统，将所述光出射部射出的光束的光斑聚光于被曝光面；及微小偏转部，将多个光束微小偏转以曝光多个光束的射束之间，所述聚光光学系统具备：第1微透镜阵列，配置在所述光出射部与所述微小偏转部之间，并具备多个与所述光出射部的光出射位置对应的微透镜；第2微透镜阵列，配置在所述微小偏转部与所述被曝光面之间，并具备多个与所述光出射部的光出射位置对应的微透镜；以及投影光学系统，在所述第1微透镜阵列的光入射侧形成所述光出射部的光出射位置的像，所述第1微透镜阵列将所述多个光束分别设为平行光并入射于所述微小偏转部，所述第2微透镜阵列将所述多个光束个别聚光于所述被曝光面。
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