[发明专利]导电糊剂、图案的制造方法、导电图案的制造方法和传感器在审
申请号: | 201580007768.4 | 申请日: | 2015-02-05 |
公开(公告)号: | CN105960683A | 公开(公告)日: | 2016-09-21 |
发明(设计)人: | 田边美晴 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
主分类号: | H01B1/22 | 分类号: | H01B1/22;H01B1/00;H01B13/00;H05K1/09;H05K3/12 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 郭煜;刘力 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | [课题]本发明提供导电糊剂,所述导电糊剂不仅可以形成离子迁移现象的发生显著地受到抑制的导电图案,而且成本也低;提供导电糊剂,其含有用银覆盖导电性的核得到的覆银颗粒、和感光性有机化合物,银在所述覆银颗粒中所占的比例为10~45质量%。 | ||
搜索关键词: | 导电 图案 制造 方法 传感器 | ||
【主权项】:
导电糊剂,其含有用银覆盖导电性的核得到的覆银颗粒,和感光性有机化合物,银在所述覆银颗粒中所占的比例为10~45质量%。
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