[发明专利]形成导电网格图案的方法及由其制造的网格电极和层叠体有效
| 申请号： | 201580008057.9 | 申请日： | 2015-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN105980935B | 公开（公告）日： | 2019-11-05 |
| 发明（设计）人： | 朴正岵;辛富建;金在镇;李钟炳;郑镇美;郑有珍 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;G03F7/20;H01J1/30 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 李静;黄丽娟 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种制造导电网格图案的方法、由该方法制造的网格电极和层叠体。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 导电 网格 图案 方法 制造 电极 层叠 | ||
【主权项】：
1.一种制造导电网格图案的方法，包括：a)在包括导电层的基板的导电层上形成第一正型光敏材料层；b‑1)在使刻有线形图案的透明光掩模与所述第一正型光敏材料层的上表面接触之后，将紫外线照射至所述透明光掩模上；b‑2)去除所述透明光掩模，使用显影剂使所述第一正型光敏材料层显影，并形成第一正型光敏材料图案层；以及b‑3)固化所形成的第一正型光敏材料图案层；c)在具有所述第一正型光敏材料图案层的所述导电层上形成第二正型光敏材料层；d)使所述刻有线形图案的透明光掩模与所述第二正型光敏材料层的上表面接触，使得所述第一正型光敏材料图案层的线形图案与该透明光掩模的线形图案交叉而在所述导电层上形成第二正型光敏材料图案层；e)蚀刻所述导电层上未形成所述第一正型光敏材料图案层和所述第二正型光敏材料图案层的部分；以及f)去除所述第一正型光敏材料图案层和所述第二正型光敏材料图案层以制造导电网格图案，其中，所述导电网格图案的线宽是100nm以上900nm以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社LG化学，未经株式会社LG化学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201580008057.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
