[发明专利]尤其在微光刻投射曝光设备中的光学组件的分组件在审
| 申请号： | 201580009184.0 | 申请日： | 2015-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN106062633A | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | T.施沃特纳;S.菲格雷多 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈钘;张邦帅 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种尤其在微光刻投射曝光设备中的光学系统的分组件，具有一元件(10、20、30、40、50、60、70)；以及至少一个温度控制装置，用于控制该元件的温度，该温度控制装置在带至少一个管状部分的闭合回路中具有冷却介质，在进行两相转变时，该冷却介质在管状部分中被输送远离该元件或被输送至该元件；以及加热装置(15、25)，用于通过加热冷却介质来中断对冷却介质的输送。 | ||
| 搜索关键词： | 尤其 微光 投射 曝光 设备 中的 光学 组件 | ||
【主权项】：
一种尤其在微光刻投射曝光设备中的光学系统的分组件，包括：·一元件(10、20、30、40、50、60、70)；以及·至少一个温度控制装置，用于控制该元件的温度；·该温度控制装置在带至少一个管状部分的闭合回路中具有冷却介质，在进行两相转变时，该冷却介质在管状部分中被输送远离该元件或被输送至该元件；以及·加热装置(15、25)，设置用于通过加热冷却介质来中断对冷却介质的输送。
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