[发明专利]溅射靶有效
| 申请号： | 201580009968.3 | 申请日： | 2015-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN106029943B | 公开（公告）日： | 2018-08-31 |
| 发明（设计）人： | 荒川笃俊;森下优斗 | 申请（专利权）人： | 捷客斯金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C5/04;C22C19/07;C22C32/00;G11B5/851 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 胡嵩麟;王海川 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种溅射靶，其为含有以Co或Fe作为主要成分的合金以及包含Mn和B的氧化物的溅射靶，其特征在于，上述溅射靶的组成满足9原子％≤Mn+B+O≤56原子％、B≤Mn(原子％)、Mn+B≤O(原子％)的条件，能够抑制成为溅射时的粉粒产生的原因的由非磁性材料引起的异常放电。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 | ||
【主权项】：
1.一种溅射靶，其含有包含Co或Fe的合金以及包含Mn和B的氧化物，其特征在于，所述溅射靶的组成满足9原子％≤Mn+B+O≤56原子％、以原子％计B≤Mn、以原子％计Mn+B≤O的条件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于捷客斯金属株式会社，未经捷客斯金属株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201580009968.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
