[发明专利]微波处理装置在审
| 申请号： | 201580010368.9 | 申请日： | 2015-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN106063373A | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | 大森义治;吉野浩二;宇野博之;上岛博幸 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | H05B6/74 | 分类号： | H05B6/74;H05B6/70 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 微波处理装置(10)具有：加热室(11)，其收纳被加热物(7)；振荡源(1)，其振荡出微波；载置台(4)，其用于在加热室(11)内载置被加热物(7)；波导管(6)，其将微波引导至载置台(4)的下方；以及周期结构体(2)，其与波导管(6)相关联地设置，使微波以表面波模式传播。周期结构体(2)具有第1区域(2a)和第2区域(2b)，并且构成为在第1区域(2a)和第2区域(2b)中具有不同的阻抗。由此，能够维持具有周期结构体的波导管所具备的表面波线路的期望的特性。 | ||
| 搜索关键词： | 微波 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种微波处理装置，其具有：加热室，其收纳被加热物；振荡源，其振荡出微波；载置台，其用于在所述加热室内载置所述被加热物；波导管，其将所述微波引导至所述载置台的下方；以及周期结构体，其与所述波导管相关联地设置，使所述微波以表面波模式传播，所述周期结构体具有第1区域和第2区域，并且构成为，在所述第1区域和所述第2区域中具有不同阻抗。
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