[发明专利]缩聚系树脂和由其形成的光学膜有效
申请号: | 201580010538.3 | 申请日: | 2015-02-26 |
公开(公告)号: | CN106062035B | 公开(公告)日: | 2018-05-29 |
发明(设计)人: | 并木慎悟;平见优一;上原久俊;林宽幸;高见芳惠;野上弘之 | 申请(专利权)人: | 三菱化学株式会社 |
主分类号: | C08G64/04 | 分类号: | C08G64/04;C08G63/16;G02B5/30;G02F1/13363 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 庞东成;孟伟青 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种光学物性、耐热性、机械物性、热稳定性等各种特性均衡地优异的树脂、以及使用该树脂得到的光学膜和相位差膜。本发明涉及一种树脂,其为具有包含芳香族结构的重复结构单元的缩聚系的树脂,该树脂的特征在于,该重复结构单元中的芳香族结构的含量满足下述式(I),且该树脂具有结构单元。5≤A≤‑22.5×B+38.3(I)其中,0.75≤B≤0.93A:构成树脂的重复结构单元中的芳香族结构的含量[质量%]B:由树脂制成的拉伸膜在450nm的相位差(R450)与在550nm的相位差(R550)之比(R450/R550)。 | ||
搜索关键词: | 树脂 重复结构单元 芳香族结构 式( I ) 光学膜 相位差 缩聚 耐热性 光学物性 机械物性 热稳定性 相位差膜 拉伸膜 均衡 | ||
【主权项】:
1.一种树脂,其为具有包含芳香族结构的重复结构单元的缩聚系的树脂,该树脂的特征在于,该重复结构单元中的芳香族结构的含量满足下述式(I),该树脂具有选自下述式(1)和式(2)所表示的结构单元中的至少一种结构单元,5≤A≤-22.5×B+38.3 (I)其中,0.75≤B≤0.93,A:构成树脂的重复结构单元中的芳香族结构的含量,单位为质量%,B:由树脂制成的拉伸膜在450nm的相位差R450与在550nm的相位差R550之比R450/R550,[化1] 式(1)和(2)中,R1 ~R3 各自独立地为直接键合、或者具有或不具有取代基的碳原子数为1~4的亚烷基,R4 ~R9 各自独立地为氢原子、具有或不具有取代基的碳原子数为1~10的烷基、具有或不具有取代基的碳原子数为4~10的芳基、具有或不具有取代基的碳原子数为1~10的酰基、具有或不具有取代基的碳原子数为1~10的酰氧基、具有或不具有取代基的碳原子数为1~10的烷氧基、具有或不具有取代基的碳原子数为1~10的芳氧基、具有或不具有取代基的氨基、具有或不具有取代基的碳原子数为1~10的乙烯基、具有或不具有取代基的碳原子数为1~10的乙炔基、具有取代基的硫原子、具有取代基的硅原子、卤原子、硝基、或氰基;其中,R4 ~R9 中,相邻的至少2个基团可以相互键合形成环。
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