[发明专利]用于向对象内的靶区域施加辐射的系统有效

专利信息
申请号: 201580010705.4 申请日: 2015-02-26
公开(公告)号: CN106061541B 公开(公告)日: 2019-08-27
发明(设计)人: G·L·T·F·豪特瓦斯特;D·宾内卡普 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: A61M36/04 分类号: A61M36/04
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 李光颖;王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及一种用于向对象内的靶区域施加辐射的系统。如近距离放射治疗导管的引入元件(12)被插入到所述对象中,并且辐射源(10)在引入元件内移动,从而位于所述靶区域内或靠近所述靶区域。所述靶区域被加热,其中,根据沿着引入元件的温度来控制辐射源在引入元件内的移动。对象对于在沿着引入元件的长度的各位置处由辐射源发出的辐射的易受性能够取决于在各位置处的温度,使得可以通过根据沿着引入元件的长度的温度来控制辐射源的移动来优化对辐射的施加。
搜索关键词: 用于 对象 区域 施加 辐射 系统
【主权项】:
1.一种用于向对象内的靶区域施加辐射的系统,其中,所述系统(1)包括:‑细长的引入元件(12),其用于被插入到所述对象(2)中并且用于将发出要被施加到所述靶区域的辐射的辐射源(10)引入到所述对象(2)中;‑移动单元(14),其用于在所述引入元件(12)内移动所述辐射源(10),使得所述辐射源(10)被定位在所述靶区域内或靠近所述靶区域;‑加热单元(30),其用于加热所述靶区域;‑温度确定单元(13),其用于确定沿着所述引入元件(12)的长度的温度;以及‑控制单元(15),其用于根据所确定的温度来控制所述移动单元(14)。
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