[发明专利]包括具有减少响应时间的可变形膜的光学设备

摘要

本发明涉及一种光学设备(100)，该光学设备包括‑可变形膜(1)，‑支撑件(2)，所述膜(1)的周边锚定区域(1c)连接到该支撑件(2)，‑腔，该腔填充有恒定体积的流体(3)，所述腔由膜(1)、基本上平行于膜(1)延伸的基部(20,200)以及支撑件(2)的在基部(20)和膜(1)之间延伸的壁(21)界定，‑膜(1)的区域(1a)的致动设备(4)，该膜(1)的区域(1a)位于膜(1)的周边锚定区域(1c)和中心部分(1b)之间，该致动设备(4)被配置为通过施加电致动电压而弯曲，以便移动位于所谓流动区域(30)的区域中的一些体积的流体，该流动区域位于膜(1)的致动区域和腔的基部(20)之间，所述光学设备(100)的特征在于，该光学设备包括加热元件(5)，该加热元件适于局部加热流动区域(30)中和/或腔的面向膜的中心部分(1b)的区域中的流体。

主权项

一种光学设备(100)，包括：‑可变形膜(1)，‑支撑件(2)，所述膜(1)的周边锚定区域(1c)连接到所述支撑件(2)，‑腔，所述腔填充有恒定体积的流体(3)，所述腔由所述膜(1)、基本上平行于所述膜(1)延伸的基部(20，200)以及所述支撑件(2)的在所述基部(20)和所述膜(1)之间延伸的壁(21)界定，‑所述膜(1)的区域(1a)的致动设备(4)，所述膜(1)的区域(1a)位于所述膜(1)的所述周边锚定区域(1c)和中心部分(1b)之间，所述致动设备(4)被配置为通过施加电致动电压而弯曲，以便移动位于被称为流动区域(30)的区域中的一些所述体积的流体，所述流动区域位于所述膜(1)的致动区域和所述腔的所述基部(20)之间，和‑加热元件(5)，所述加热元件适于局部加热所述流动区域(30)中和/或所述腔的面向所述膜的所述中心部分(1b)的区域中的流体。