[发明专利]多层膜的制造方法以及多层膜在审
| 申请号： | 201580011289.X | 申请日： | 2015-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN106062239A | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | 小林宏树;逸见充则;广瀬光隆;塚越和也;木村勋;邹弘纲 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/06;H01L21/316;H01L41/187;H01L41/316;H01L41/319 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 康泉;王珍仙 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的多层膜的制造方法是在基板(2、31)形成导电层(3)，以覆盖所述导电层(3)的方式通过溅射法形成含有氧化物的种子层(4)，所述氧化物具有钙钛矿结构，以覆盖所述种子层(4)的方式形成介质层(5)。 | ||
| 搜索关键词： | 多层 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
一种多层膜的制造方法，其中，在基板上形成导电层，以覆盖所述导电层的方式通过溅射法形成含有氧化物的种子层，所述氧化物具有钙钛矿结构，以覆盖所述种子层的方式形成介质层。
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