[发明专利]透明导电性薄膜有效
| 申请号： | 201580011395.8 | 申请日： | 2015-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN106062888B | 公开（公告）日： | 2020-06-19 |
| 发明（设计）人： | 藤野望;加藤大贵;梨木智刚 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;B32B7/023;G06F3/041;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
[课题]实现一种即使为了提高耐擦伤性而包含干式光学调整层，透明导电层也具有适当的蚀刻速度的透明导电性薄膜。[解决方法]在透明的薄膜基材(11)的主表面依次层叠有光学调整层(12)和透明导电层(13)的透明导电性薄膜(10)。光学调整层(12)包含含有无机氧化物的干式光学调整层。透明导电层(13)包含含有铟的金属氧化物。透明导电层(13)为结晶质，且至少具有对应于(400)面、(440)面的X射线衍射峰，将(400)面的X射线衍射峰强度设为I |
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| 搜索关键词： | 透明 导电性 薄膜 | ||
【主权项】：
一种透明导电性薄膜，其是在透明的薄膜基材的至少一个主表面至少依次层叠光学调整层和透明导电层而成的，其中，所述光学调整层包含含有无机氧化物的干式光学调整层，所述透明导电层包含含有铟的金属氧化物，所述透明导电层为结晶质，且至少具有对应于(400)面、(440)面的X射线衍射峰，将所述(400)面的X射线衍射峰强度设为I400、将所述(440)面的X射线衍射峰强度设为I440时，所述X射线衍射峰强度之比I440/I400为1.0～2.2的范围。
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