[发明专利]磁性薄膜以及包括磁性薄膜的应用设备有效
| 申请号： | 201580011466.4 | 申请日： | 2015-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN106062900B | 公开（公告）日： | 2018-03-23 |
| 发明（设计）人： | 中田仁志;岛津武仁 | 申请（专利权）人： | 富士电机株式会社 |
| 主分类号： | H01F10/14 | 分类号： | H01F10/14;B81B7/02;G11B5/65;H01F10/32;H01L21/8246;H01L27/105;H01L29/82;H01L43/08;H01L43/10 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人： | 金春实 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于，提供具有高的磁各向异性常数(Ku)及大的顽磁力(Hc)的磁性薄膜以及包括该磁性薄膜的应用设备。本发明的磁性薄膜包括有序合金，该有序合金包含从由Fe以及Ni构成的群选择的至少一种第一元素、从由Pt、Pd、Au以及Ir构成的群选择的至少一种第二元素以及Sc。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性 薄膜 以及 包括 应用 设备 | ||
【主权项】：
一种磁性薄膜，其特征在于，包含有序合金，所述有序合金包含从由Fe以及Ni构成的群选择的至少一种第一元素、从由Pt、Pd、Au以及Ir构成的群选择的至少一种第二元素以及Sc，Sc的添加量在1.2～3.8原子％的范围内。
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