[发明专利]内燃机用气缸体及其制造方法在审
| 申请号： | 201580011627.X | 申请日： | 2015-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN106062348A | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | 小林幸司;神志那薰;吉本信彦;船津纯矢 | 申请（专利权）人： | 本田技研工业株式会社 |
| 主分类号： | F02F1/00 | 分类号： | F02F1/00;C23C16/27;C23C16/42;F16J10/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成;孟伟青 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及内燃机用气缸体(10)及其制造方法。在内燃机用气缸体(10)中，在缸膛(12)的内壁形成有SiC中间膜(20)和DLC膜(22)。在将SiC中间膜(20)的膜厚设为T1、将DLC膜(22)的膜厚设为T2时，下述的式(1)～式(3)成立。需要说明的是，优选0.2μm≤T1≤1μm、7μm≤T1+T2≤13μmT1≥0.2μm…(1)T1<T2…(2)T1+T2≥7μm…(3)。 | ||
| 搜索关键词： | 内燃机 缸体 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种内燃机用气缸体(10)，该内燃机用气缸体(10)由铝合金构成，缸膛(12)的内壁被类金刚石碳膜(22)所被覆，该内燃机用气缸体(10)的特征在于，在所述内壁与所述类金刚石碳膜(22)之间形成有SiC中间膜(20)，在将所述SiC中间膜(20)的膜厚设为T1、将所述类金刚石碳膜(22)的膜厚设为T2时，下述的式(1)～式(3)成立，T1≥0.2μm…(1)T1<T2…(2)T1+T2≥7μm…(3)。
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