[发明专利]红外线反射基板及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201580011679.7 申请日: 2015-02-26
公开(公告)号: CN106104320A 公开(公告)日: 2016-11-09
发明(设计)人: 渡边圣彦;大森裕 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B5/26 分类号: G02B5/26;B32B9/00;C23C14/06;C23C14/34
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的红外线反射基板(100)在透明基材(10)上依次具备第一金属氧化物层(21)、第二金属氧化物层(22)及金属层(30),且第二金属氧化物层(22)与金属层(30)直接接触。第一金属氧化物层(21)的折射率为2.2以上。第二金属氧化物层(22)优选由含有氧化锡及氧化锌且氧量相对于化学计量组成为不足的金属氧化物形成。第二金属氧化物层优选通过直流溅射法成膜。在第二金属氧化物层的成膜中,优选使用含有锌原子及锡原子且由氧化锌和氧化锡中的至少一种金属氧化物与金属粉末进行烧结而成的靶。导入至溅射成膜室内的气体中的氧浓度优选为8体积%以下。根据本发明,可获得可见光的透过率较高且耐久性优异的红外线反射基板。
搜索关键词: 红外线 反射 及其 制造 方法
【主权项】:
一种红外线反射基板,其在透明基材上依次具备第一金属氧化物层、第二金属氧化物层及金属层,且所述第一金属氧化物层的折射率为2.2以上,所述第二金属氧化物层由含有氧化锡及氧化锌且氧量相对于化学计量组成为不足的金属氧化物形成,所述第二金属氧化物层与所述金属层直接接触。
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