[发明专利]用于等离子体电极的电活性的和化学活性的吸附层在审
申请号: | 201580011804.4 | 申请日: | 2015-03-02 |
公开(公告)号: | CN106103797A | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 艾瑞克·R·迪基;布莱恩·拉森·丹费斯;M·科恩 | 申请(专利权)人: | 路特斯应用技术有限责任公司;凸版印刷有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/513 |
代理公司: | 北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙) 11276 | 代理人: | 刘云贵;周华宁 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 在基底上形成薄膜的系统使用等离子体来激活与反应空间连接的等离子体发生器内的至少一种气态前驱体。等离子体发生器有效的利用至少一对等离子体电极由至少一部分前驱体气体来产生等离子体,等离子体电极具有展示如下性质特点的非原生的导电吸附层:利用等离子体发生区域内的至少一种气体能够使吸附层基本保留并具有化学活性。 | ||
搜索关键词: | 用于 等离子体 电极 活性 化学 吸附 | ||
【主权项】:
一种系统,使用等离子体激活膜沉积过程由至少一种气体前驱体在基底上形成薄膜,所述系统包括:反应空间,当所述系统在使用时,所述反应空间被供给前驱体气体并被提供基底;和等离子体发生器,与所述反应空间活动地连接并且在等离子体发生区域内由至少一部分所述前驱体气体来产生等离子体,所述等离子体发生器具有包括非原生导电吸附层的至少一个等离子体电极,所述吸附层展示了如下性质:利用等离子体发生区域内存在的至少一种气体使所述吸附层基本保留并具有化学活性。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的