[发明专利]用于激发并维持等离子体的基于波导的设备有效
申请号: | 201580012078.8 | 申请日: | 2015-03-23 |
公开(公告)号: | CN106063384B | 公开(公告)日: | 2020-04-14 |
发明(设计)人: | 赛义德·扎伊迪;皮特·T·威廉姆斯;梅尔鲁斯·瓦希德保尔 | 申请(专利权)人: | 安捷伦科技有限公司 |
主分类号: | H05H1/26 | 分类号: | H05H1/26;H05H1/30;H05H1/46 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 柳春雷 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种设备(100,1000)包括:电磁波导(100),其支持电磁波在电磁波导的第一端(102)与电磁波导的第二端(104)之间沿第一方向的传播;以及电磁波导内的电磁场成形结构(300)。电磁场成形结构限定从设备的第一壁(103‑1)中的第一孔径(107)延伸到相反的第二壁(103‑2)中的第二孔径(109)的通道(108)。通道具有沿与第一方向不平行的第二方向延伸的轴线。第一孔径与第二孔径之间沿第二方向的距离小于波导的内部区域(111)在其第一端和第二端的宽度。在一些实施例中,等离子体炬(900)布置在通道内。等离子体炬的长度紧密地匹配其相互作用区域。 | ||
搜索关键词: | 用于 激发 维持 等离子体 基于 波导 设备 | ||
【主权项】:
一种装置(100,1000),包括:电磁波导(100),其被配置成支持电磁波在所述电磁波导的第一端(102)与所述电磁波导的第二端(104)之间沿第一方向的传播;以及所述电磁波导内的电磁场成形结构(300),所述电磁场成形结构在其中限定通道(108),所述通道从所述设备的第一壁(103‑1)中的第一孔径(107)延伸到所述设备的相反的第二壁(103‑2)中的第二孔径(109),所述通道具有沿与所述第一方向不平行的第二方向延伸的轴线,其中所述第一孔径与所述第二孔径之间沿第二方向的距离小于所述波导的内部区域(111)在其所述第一端和所述第二端处的宽度。
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