[发明专利]蒸气输送系统

摘要

一种可用于低蒸气压液体和固体前体的改进的ALD系统。所述ALD系统包括前体容器和惰性气体输送元件，所述惰性气体输送元件配置成通过在前体脉冲向反应室移动的同时将惰性气体脉冲注入前体容器中而增加前体容器内的前体蒸气压。可控的惰性气体流量阀和限流器沿着惰性气体输入管线布置，所述惰性气体输入管线在前体容器的填充水平之下导入前体容器中。在填充水平之上提供蒸气空间。ALD脉冲阀沿着在蒸气空间与反应室之间延伸的前体蒸气管线布置。两个阀同时脉冲以同步地从蒸气空间移除前体蒸气和将惰性气体在填充水平之下注入前体容器中。

主权项

1.一种蒸气输送系统，其包括：连接到真空泵的反应室，所述真空泵可操作以从所述反应室移除气体；含有填充至填充水平的液体和固体前体材料中的一种的前体容器，其中在所述填充水平之上形成前体蒸气空间；提供为从惰性气体源接收惰性气体并且将所述惰性气体在所述填充水平之下输送到所述前体容器中的惰性气体输入管线；设置在所述前体蒸气空间与所述反应室之间的前体蒸气管线；沿着在所述前体蒸气空间与所述反应室之间的所述前体蒸气管线设置的可控的ALD脉冲阀；沿着在所述前体容器与所述惰性气体源之间的所述惰性气体输入管线设置的可控的惰性气体流量阀；与所述可控的ALD脉冲阀和所述可控的惰性气体流量阀中的每一个电连通的系统控制器，所述系统控制器可操作以向所述可控ALD脉冲阀和所述可控惰性气体流量阀中的每一个脉冲到打开位置以由此同时将脉冲体积的惰性气体在所述填充水平之下注入所述前体容器中和将脉冲体积的前体蒸气注入所述反应室中，其中所述脉冲体积的前体蒸气自所述前体蒸气空间输送。