[发明专利]最大限度减少了残磁的磁体吸持装置在审

专利信息
申请号: 201580013918.2 申请日: 2015-02-13
公开(公告)号: CN106104717A 公开(公告)日: 2016-11-09
发明(设计)人: 崔泰光 申请(专利权)人: 崔泰光
主分类号: H01F7/02 分类号: H01F7/02;H01F7/06;B23Q3/15
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 李献忠;张华
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及一种磁体吸持装置,该磁体吸持装置利用磁阻最小化结构来最大限度减少残磁。本发明的磁体吸持装置用于吸持或者解除作为磁体的吸附对象,其包括:第一极片;第二极片;主永磁铁;基底;线圈及控制装置,控制装置通过控制施加到所述线圈的电流来磁化所述第一极片、所述第二极片及所述基底中的至少一个,从而控制所述吸附对象的吸持或者解除,在所述第一极片和所述基底相遇的地点附近或在所述第二极片和所述基底相遇的地点附近形成有磁通促进部,所述基底的边角被施以倒角(chamfer)或者倒圆角(fillet)处理,使得当所述基底与所述第一极片和所述第二极片接触时,所述边角顺着由所述主永磁铁产生且贯通所述基底的磁通路径。
搜索关键词: 最大 限度 减少 磁体 装置
【主权项】:
一种磁体吸持装置,用于吸持或者解除作为磁体的吸附对象的磁体吸持装置,其特征在于,包括:第一极片,具有用于吸附所述吸附对象的吸持面及在与该吸持面不同的部分上设置的基底‑吸附面,且为磁体;第二极片,具有用于吸附所述吸附对象的吸持面及在与该吸持面不同的部分上设置的基底‑吸附面,且为磁体;主永磁铁,配置为其N极与所述第一极片和所述第二极片中的一个极片接触,其S极与所述第一极片和所述第二极片中的另一个极片接触;基底,能够在第一位置和第二位置之间移动,所述第一位置为所述基底与所述第一极片的基底‑吸附面及所述第二极片的基底‑吸附面中的至少一个隔开的位置,所述第二位置为所述基底与所述第一极片的基底‑吸附面及所述第二极片的基底‑吸附面都接触的位置;线圈,缠绕在所述第一极片、所述第二极片及所述基底中的至少一个上;及控制装置,通过控制施加到所述线圈的电流来磁化所述第一极片、所述第二极片及所述基底中的至少一个,从而控制所述吸附对象的吸持或者解除,通过使所述基底位于所述第一位置,使得所述第一极片和所述第二极片的吸持面吸附所述吸附对象,通过对所述线圈施加电流来生成贯通所述第一极片的基底‑吸附面和所述第二极片的基底‑吸附面的磁通,从而使所述基底通过磁力位于所述第二位置上,使得所述第一极片和所述第二极片的吸持面解除所述吸附对象,在所述第一极片和所述基底相遇的地点附近或在所述第二极片和所述基底相遇的地点附近形成有磁通促进部,以免当所述基底位于所述第二位置时,由所述主永磁铁产生且贯通所述基底的磁通路径中的最短路径垂直折曲,所述基底的边角被施以倒角或者倒圆角处理,使得当所述基底位于所述第二位置时,该边角顺着由所述主永磁铁产生且贯通所述基底的磁通路径。
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