[发明专利]添加剂以及包含该添加剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物

摘要

本发明的课题是提供用于抗蚀剂下层膜形成用组合物的添加剂、以及包含该添加剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物。本发明的解决方法是一种用于抗蚀剂下层膜形成用组合物的添加剂、以及包含前述添加剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述添加剂含有具有下述式(1)～式(4)所示的结构单元的共聚物(式中，R¹分别独立地表示氢原子或甲基，Ar表示亚芳基，Pr表示保护基或氢原子，X表示直接结合或‑C(＝O)O‑R²‑基，构成该‑C(＝O)O‑R²‑基的R²表示碳原子数为1～3的亚烷基，该亚烷基与硫原子结合，R³表示氢原子、甲基、甲氧基或卤素，R⁴表示至少1个氢原子被氟取代了的碳原子数为1～3的烷基，Z表示具有四元环～七元环的内酯骨架、金刚烷骨架或降冰片烷骨架的有机基团。)。

主权项

1.一种添加剂，用于抗蚀剂下层膜形成用组合物，含有具有下述式(1)～式(4)所示的结构单元的共聚物，式中，R¹分别独立地表示氢原子或甲基，Ar表示亚芳基，Pr表示保护基或氢原子，X表示直接结合或‑C(＝O)O‑R²‑基，构成该‑C(＝O)O‑R²‑基的R²表示碳原子数为1～3的亚烷基，该亚烷基与硫原子结合，R³表示氢原子、甲基、甲氧基或卤素，R⁴表示至少1个氢原子被氟取代了的碳原子数为1～3的烷基，Z表示具有四元环～七元环的内酯骨架、金刚烷骨架或降冰片烷骨架的有机基团。