[发明专利]在桫拉希醇的制造中有用的化合物及它们的制造方法、桫拉希醇的制造方法、二醇基的保护方法及脱保护方法、以及二醇基的保护剂有效
申请号: | 201580015125.4 | 申请日: | 2015-03-19 |
公开(公告)号: | CN106414423B | 公开(公告)日: | 2019-11-01 |
发明(设计)人: | 中村刚希;长濑久人;藤野雄太;渡边克之;胜又泰司 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | C07D319/06 | 分类号: | C07D319/06;C07D333/32;C07D409/06;C07D493/04;C07D497/10 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 周欣;陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明的课题在于提供一种在桫拉希醇的制造中有用的新型化合物及它们的制造方法、桫拉希醇的制造方法、二醇基的保护方法及脱保护方法、以及二醇基的保护剂。以通式(1)表示的化合物是在桫拉希醇的制造中有用的化合物。式中,R1a及R1b为氢原子或羧基保护基;R2为羟基等,R3为羟基等。 |
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搜索关键词: | 桫拉希醇 制造 有用 化合物 它们 方法 二醇基 保护 以及 | ||
【主权项】:
1.一种以通式(1)表示的化合物,
式中,R1a及R1b相同或不同,是氢原子或羧基保护基;R2为羟基,且R3为羟基;或者R2为以通式(2)表示的基团,且R3为以式(3)表示的基团;或者R2及R3一同成为以通式(4)表示的基团,
式中,R4a、R4b及R4c相同或不同,是氢原子或羟基保护基;*为键合位置,
式中,*具有与前述相同的含义,*‑O‑X1‑O‑* (4)式中,X1为以通式(5)表示的基团或以式(6)表示的基团;*具有与前述相同的含义,
式中,R5为苯基或萘基;*具有与前述相同的含义,
式中,*具有与前述相同的含义,所述羧基保护基为C1‑6烷基、C2‑6烯基、苯基、萘基、芳基C1‑6烷基、C1‑6烷氧基C1‑6烷基或甲硅烷基,所述羧基保护基可被选自取代基组A中的1个以上的基团取代,所述羟基保护基为C1‑6烷基、C2‑6烯基、芳基C1‑6烷基、C1‑6烷氧基C1‑6烷基、酰基、C1‑6烷氧基羰基、C1‑6烷基磺酰基、芳基磺酰基、四氢呋喃基、四氢吡喃基或甲硅烷基,所述羟基保护基可被选自取代基组A中的1个以上的基团取代,取代基组A:卤原子、氰基、硝基、氨基、羟基、羧基、可被选自取代基组B中的1个以上的基团取代的C1‑6烷基、可被选自取代基组B中的1个以上的基团取代的苯基或萘基、可被选自取代基组B中的1个以上的基团取代的C1‑6烷氧基、可被选自取代基组B中的1个以上的基团取代的C1‑6烷基氨基、可被选自取代基组B中的1个以上的基团取代的二(C1‑6烷基)氨基、可被选自取代基组B中的1个以上的基团取代的C1‑6烷基硫基,取代基组B:卤原子、氰基、硝基、可被卤原子取代的C1‑6烷基、可被卤原子取代的苯基或萘基、可被卤原子取代的C1‑6烷氧基,所述芳基C1‑6烷基为苄基、二苯基甲基、三苯甲基、苯乙基或萘基甲基,所述芳基磺酰基为苯磺酰基、对甲苯磺酰基或萘磺酰基。
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