[发明专利]用于水处理的抗污垢膜在审
| 申请号： | 201580015392.1 | 申请日： | 2015-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN106458649A | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | L.R.卡;董红晨;P.M.小斯米格尔斯基;J.L.戴维斯;J.M.尼科尔斯 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | C02F1/44 | 分类号： | C02F1/44;C02F101/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 徐晶;黄希贵 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 用于处理含有溶解固体、悬浮固体、有机物或其组合的水的方法，所述方法包括使水与包括布置在膜基材上的涂布材料的涂覆膜接触，所述涂布材料包含衍生自式I化合物、式II化合物和式III化合物的结构单元，其中R1、R2和R3每次出现时独立地为C1‑C12烷基；R4为烷基甲硅烷基；L1为烷基氨基甲酸酯基；L2和L3每次出现时独立地为烷基；X为羟基、烷氧基或烷基氨基；且m、n和p每次出现时独立地在4‑9之间的范围内。所述涂覆膜在用于所述方法的膜过滤装置中与背衬连接。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 水处理 污垢 | ||
【主权项】：
一种用于处理含有溶解固体、悬浮固体、有机物或其组合的水的方法，所述方法包括使水与包括布置在膜基材上的涂布材料的涂覆膜接触，所述涂布材料包含衍生自式I化合物、式II化合物和式III化合物的结构单元：其中R1、R2和R3每次出现时独立地为C1‑C12烷基；R4为烷基甲硅烷基；L1为烷基氨基甲酸酯基；L2和L3每次出现时独立地为烷基；X为羟基、烷氧基或烷基氨基；且m、n和p每次出现时独立地在4‑9之间的范围内。
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