[发明专利]光电转换元件的制造方法有效
| 申请号： | 201580015418.2 | 申请日： | 2015-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN106104729B | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 大塚智弘;中岛节男 | 申请（专利权）人： | 积水化学工业株式会社 |
| 主分类号： | H01G9/20 | 分类号： | H01G9/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 刘晓迪 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种光电转换元件，具有：在一基板的板面上形成有透明导电膜且在所述透明导电膜的表面形成有半导体层的第一电极；在与所述一基板隔开间隔相对配置的另一基板的板面以与所述透明导电膜相对的方式形成有相对导电膜的第二电极；密封在第一电极与第二电极之间的电解质，所述一基板及所述另一基板的至少一方在将所述电解质密封的外周壁部的内侧弯折或弯曲，朝向相对配置的所述另一基板或者所述一基板突出。 | ||
| 搜索关键词： | 光电 转换 元件 电气 模块 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光电转换元件的制造方法，该光电转换元件具有：第一电极，其在一基板的板面形成有透明导电膜，在所述透明导电膜的表面形成有半导体层；第二电极，其在与所述一基板隔开间隔相对配置的另一基板的板面以与所述透明导电膜相对的方式形成有相对导电膜；电解质，其被密封在所述第一电极与第二电极之间，所述一基板及所述另一基板的至少一方在将所述电解质密封的外周壁部的内侧弯曲，朝向相对配置的所述另一基板或所述一基板突出，所述光电转换元件的制造方法的特征在于，在对所述一基板施加张力使其伸长的状态下将所述半导体层成膜，之后，通过解除张力，以所述一基板形成朝向所述另一基板突出的弯曲面的方式使所述一基板弯曲，所述弯曲面的曲率设为0.01～0.1。
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