[发明专利]运行气相光气化装置的方法

摘要

本发明涉及运行用于使胺(2)与光气(1)反应产生相应的异氰酸酯(4)的气相光气化装置(100)的方法，其中为了启动气相光气化装置(100)，首先用光气充填所述装置。与首次充填光气同时或此后，借助热的惰性气体料流(30)使胺供应设备惰性化。在此后才首次加入胺。通过这些措施并通过保持胺和光气供应设备到混合区的压降，防止在启动过程中光气回混到含胺的反应物料流中。

主权项

运行用于使胺(2)与光气(1)反应以产生相应的异氰酸酯(4)的气相光气化装置(100)的方法，其中所述气相光气化装置(100)至少包含(i) 用于提供气态光气料流(10)的装置1000，(ii) 用于提供气态胺料流(20)的装置2000，(iii) 用于混合料流(10)和(20)的混合区(3100)，其中所述混合区通过设备(1100、2100)分别与装置1000和装置2000相连，(iv) 布置在混合区(3100)下游的用于之前混合的料流(10)和(20)的进一步反应的反应区(3200)，(v) 布置在反应区(3200)下游的用于终止所述反应的反应停止区(4000)，和任选的(vi) 后处理部分(5000)，其包含用于回收和再循环未转化的光气(1'')的设备(5100)和用于获得以纯净形式制成的异氰酸酯的设备(5200)，其特征在于通过运行下列步骤启动气相光气化装置(100)：(I) 在装置1000中提供200℃至600℃的温度T10和100毫巴至3000毫巴的绝对压力p10的气态光气料流(10)并将这一气态光气料流(10)经设备1100连续引入混合区(3100)、反应区(3200)和反应停止区(4000)，其中压力p10大于混合区(3100)中的压力p3100；(II) 与步骤(I)同时或此后，(a) 将温度T3 < 200℃的惰性物质(3)，优选在室温和标准压力下为液体的那些引入装置2000，在装置2000中加热惰性物质(3)以获得惰性气体料流(30)，使其经过设备2100、混合区(3100)、反应区(3200)和反应停止区(4000)或(b) 将惰性气体料流(30)(b.1) 引入设备2100并从此处经过混合区(3100)、反应区(3200)和反应停止区(4000)或优选(b.2) 引入装置2000并从此处经过设备2100、混合区(3100)、反应区(3200)和反应停止区(4000)，其中变体(a)和变体(b)中的惰性气体料流(30)具有200℃至600℃的温度和100毫巴至3000毫巴的绝对压力p30，其中压力p30在这两种情况下都大于混合区(3100)中的压力p3100；(III) 在步骤(II)后，在装置2000中提供200℃至600℃的温度T20和100毫巴至3000毫巴的绝对压力p20的气态胺料流(20)并将这一气态胺料流(20)经设备2100连续引入混合区(3100)，其中压力p20大于混合区(3100)中的压力p3100，且其中料流(20)的组成和质量流量与料流10的组成和质量流量匹配，以使在混合区(3100)中，光气(1)相对于胺(2)的伯氨基化学计算过量存在。