[发明专利]运行气相光气化装置的方法有效

专利信息
申请号: 201580015929.4 申请日: 2015-03-24
公开(公告)号: CN106458864B 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: T.克瑙夫;W.洛伦茨;F.斯蒂芬斯;R.布劳斯;W.陶贝 申请(专利权)人: 科思创德国股份有限公司
主分类号: C07C263/10 分类号: C07C263/10;C07C265/14
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 刘维升;万雪松
地址: 德国勒*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及运行用于使胺(2)与光气(1)反应产生相应的异氰酸酯(4)的气相光气化装置(100)的方法,其中通过首先停止胺料流并仍维持光气料流而停止气相光气化装置(100)。从完全停止胺进料的时间点起计算,最早在经过相当于光气(1)在气相光气化装置(100)的正常运行中在其基本部分中的停留时间的10倍的时期后,也停止光气进料。在停机过程中,使惰性气体料流(30)维持经过胺和光气进料设备和经过气相光气化装置(100)的所有其它基本部分。
搜索关键词: 运行 气相光 气化 装置 方法
【主权项】:
运行用于使胺(2)与相对于胺(2)的伯氨基化学计算过量的光气(1)反应以产生相应的异氰酸酯(4)的气相光气化装置(100)的方法,其中所述气相光气化装置(100)至少包含(i) 用于提供任选除光气(1)外还包含惰性物质(3)的气态光气料流(10)的装置1000,(ii) 用于提供任选除胺(2)外还包含惰性物质(3)的气态胺料流(20)的装置2000,(iii) 用于混合料流(10)和(20)的混合区(3100),其中所述混合区通过设备(1100、2100)分别与装置1000和装置2000相连,(iv) 布置在混合区(3100)下游的用于之前混合的料流(10)和(20)的进一步反应的反应区(3200),(v) 布置在反应区(3200)下游的用于终止所述反应的反应停止区(4000),和任选的(vi) 后处理部分(5000),其包含用于回收和再循环未转化的光气(1'') 的设备(5100)和用于获得以纯净形式制成的异氰酸酯的设备(5200),其特征在于通过运行下列步骤停止气相光气化装置(100):(I) 将胺质量流量M'(2)降至0,同时使气态惰性气体料流(30)维持经过设备2100、混合区(3100)、反应区(3200)和反应停止区(4000);(II) 在从M'(2)为0的时间点起计算经过相当于在气相光气化装置(100)的正常运行中光气(1)从离开装置1000到离开反应停止区(4000)的停留时间的至少10倍,优选所述停留时间的至少30倍,更优选所述停留时间的至少60倍,最优选所述停留时间的至少90倍的时期后,才将离开装置1000的光气的质量流量M'(1)降至0,同时使气态惰性气体料流(30)维持经过设备1100、混合区(3100)、反应区(3200)和反应停止区(4000);(III) 从离开装置1000的光气的质量流量M'(1)为0的时间点起计算,使至少来自(I)的惰性气体料流(30),优选来自(I)和(II)的惰性气体料流(30)维持至少相当于惰性气体料流(30)从进入混合区(3100)到离开反应停止区(4000)的停留时间的3倍,优选100倍,更优选200倍,最优选350倍的时期。
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