[发明专利]研磨用组合物在审
| 申请号： | 201580016859.4 | 申请日： | 2015-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN106133104A | 公开（公告）日： | 2016-11-16 |
| 发明（设计）人： | 横田周吾;铃木章太;赤塚朝彦;大和泰之;坂部晃一;井泽由裕;吉崎幸信;斋藤千晶 | 申请（专利权）人： | 福吉米株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;H01L21/3105;H01L21/321;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于，提供充分去除CMP后残留在研磨对象物表面的杂质的方法。本发明的研磨用组合物的特征在于，在使用含有磨粒或有机化合物(A)的研磨用组合物(A)进行了研磨后使用，所述研磨用组合物含有有机化合物(B)、pH调节剂以及0～1质量％的磨粒，所述有机化合物(B)含有选自由氟原子、氧原子、氮原子及氯原子组成的组中的至少1种原子且分子量为100以上。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 组合 | ||
【主权项】：
一种研磨用组合物，其在使用含有磨粒或有机化合物(A)的研磨用组合物(A)进行了研磨后使用，所述研磨用组合物含有有机化合物(B)、pH调节剂以及0～1质量％的磨粒，所述有机化合物(B)含有选自由氟原子、氧原子、氮原子及氯原子组成的组中的至少1种原子且分子量为100以上。
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