[发明专利]蚀刻组合物在审
| 申请号： | 201580017552.6 | 申请日： | 2015-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN106460196A | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | T·多瑞;E·A·克内尔;高桥智威 | 申请（专利权）人： | 富士胶片电子材料美国有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/10 | 分类号： | C23F1/10;C23F1/40;C23F1/44 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司11415 | 代理人： | 方志炜 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种蚀刻组合物，其含有1)至少一种氧化剂；2)至少一种螯合剂；3)至少一种金属腐蚀抑制剂；4)至少一种有机溶剂；5)至少一种脒碱；及6)水。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
一种蚀刻组合物，包含：1)至少一种氧化剂；2)至少一种螯合剂；3)至少一种金属腐蚀抑制剂；4)至少一种有机溶剂；5)至少一种脒碱；以及6)水；其中，所述组合物的pH为约6.5至约9.5。
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