[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、具备感光化射线性或感放射线性膜的空白掩模、光掩模、图案形成方法、电子器件的制造方法及电子器件在审
| 申请号： | 201580017751.7 | 申请日： | 2015-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN106133601A | 公开（公告）日： | 2016-11-16 |
| 发明（设计）人： | 望月英宏;高桥孝太郎;土村智孝 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 葛凡 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种经时稳定性优异、且解析性也优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、具备该膜的空白掩模、光掩模及图案形成方法、以及电子器件的制造方法及电子器件。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法是关于含有树脂、酸产生剂、有机酸及溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，其特征在于包含选自下述工序(i)、工序(ii)及工序(iii)的任意工序，且所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中的有机酸的含有率是以该组合物中的所有固体成分为基准而言大于5质量％。(i)在实质上不含树脂及酸产生剂的溶液中溶解有机酸的工序，(ii)在含有酸产生剂、且实质上不含树脂的溶液中溶解有机酸的工序，及(iii)在含有树脂、且实质上不含酸产生剂的溶液中溶解有机酸的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 感光 射线 放射 线性 树脂 组合 制造 方法 备感 光化 空白 光掩模 图案 形成 电子器件 | ||
【主权项】：
一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，其是含有(A)树脂、(B)酸产生剂、(C)有机酸及(D)溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，其特征在于，包含选自下述工序(i)、工序(ii)及工序(iii)的任意工序，且所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中的(C)有机酸的含有率以该组合物中的所有固体成分为基准大于5质量％，所述工序为：(i)在实质上不含(A)树脂及(B)酸产生剂的溶液中溶解(C)有机酸的工序，(ii)在含有(B)酸产生剂、且实质上不含(A)树脂的溶液中溶解(C)有机酸的工序，及(iii)在含有(A)树脂、且实质上不含(B)酸产生剂的溶液中溶解(C)有机酸的工序。
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