[发明专利]抛光垫和系统以及制造和使用此类抛光垫和系统的方法有效

专利信息
申请号: 201580017813.4 申请日: 2015-03-31
公开(公告)号: CN106132630B 公开(公告)日: 2019-11-26
发明(设计)人: D·K·勒胡;K·A·P·梅耶;M·M·戴维 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: B24B7/22 分类号: B24B7/22;B24B37/24;B24B37/26;B24B37/22
代理公司: 11021 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 牛海军<国际申请>=PCT/US2015
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及包括抛光层的抛光垫,其中所述抛光层包括工作表面和与所述工作表面相背对的第二表面。该工作表面包括多个精确成形孔和多个精确成形微凸体中的至少一者。本公开还涉及一种抛光系统,该抛光系统包括上述抛光垫和抛光液。本公开涉及一种抛光基板的方法,该抛光方法包括:提供根据前述抛光垫中任一种的抛光垫;提供基板,将所述抛光垫的所述工作表面与所述基板表面接触,相对彼此移动所述抛光垫和所述基板,同时保持所述抛光垫的所述工作表面与所述基板表面之间的接触,其中抛光是在抛光液的存在下进行的。
搜索关键词: 抛光 系统 以及 制造 使用 方法
【主权项】:
1.一种抛光垫,包括具有工作表面和与所述工作表面相背对的第二表面的抛光层;/n其中所述工作表面包括底面区域,以及多个精确成形孔和多个精确成形微凸体中的至少一者;/n其中所述底面区域的厚度小于5mm,并且所述抛光层包含聚合物;/n其中所述抛光层在所述精确成形微凸体的表面和所述精确成形孔的表面的任一者或两者上以及所述底面区域的表面上包括多个纳米尺寸的形貌特征结构;并且/n其中所述抛光层是一片结构,所述一片结构只包括包含一种组成的一层材料。/n
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