[发明专利]光栅制造装置和光栅制造方法在审
| 申请号： | 201580018063.2 | 申请日： | 2015-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN106133568A | 公开（公告）日： | 2016-11-16 |
| 发明（设计）人： | 长能重博 | 申请（专利权）人： | 住友电气工业株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02;G02B5/18;G02B6/10 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 顾红霞;何胜勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供能够容易地制造具有指定衰减波长特性的光栅的一种光栅制造装置和光栅制造方法。在作为光波导的光纤中形成光栅的光栅制造装置包括激光源、光束直径调节单元、扫描镜、反射镜位置调节单元、柱面透镜、透镜位置调节单元、相位掩模、掩模位置调节单元、台部、固定夹具和同步控制器。同步控制器关联并控制由反射镜位置调节单元执行的扫描镜的位置调节和由掩模位置调节单元执行的相位掩模的位置调节这两者。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 制造 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种光栅制造装置，其将光栅写入到光波导中，所述光栅制造装置包括：激光源，其输出激光；反射镜位置调节单元，其在所述光波导的轴向上能移动，并且调节将所述激光偏转至所述光波导的扫描镜的位置，以便调节所述光波导中的光栅写入位置；掩模位置调节单元，其调节设置在所述扫描镜与所述光波导之间的相位掩模的位置，以便调节所述相位掩模与所述光波导之间的距离；以及同步控制器，其以所述扫描镜的位置调节与所述相位掩模的位置调节彼此相关联的方式控制由所述反射镜位置调节单元执行的所述扫描镜的位置调节和由所述掩模位置调节单元执行的所述相位掩模的位置调节。
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