[发明专利]防反射膜、偏振片、护罩玻璃、图像显示装置及防反射膜的制造方法有效
申请号: | 201580018148.0 | 申请日: | 2015-03-31 |
公开(公告)号: | CN106164713B | 公开(公告)日: | 2018-01-09 |
发明(设计)人: | 朝日美帆;松本彩子;伊吹俊太郎;内村真 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G02B1/118 | 分类号: | G02B1/118;B29D11/00;B32B3/30;B32B27/00;B32B27/30 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 周欣,陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种防反射膜、具有该防反射膜的偏振片、护罩玻璃及图像显示装置以及防反射膜的制造方法,防反射膜具有基材和由含有下述(A)、(B)及(C)的防反射层形成用组合物形成的防反射层,防反射层含有包含来源于下述(B)的结构及来源于下述(C)的结构中的至少一种的粘合剂树脂,且在与基材侧的界面相反侧的表面具有由通过下述(A)的金属氧化物粒子形成的凹凸形状构成的蛾眼结构,防反射层的凹凸形状中,相邻凸部的顶点之间的距离A与相邻凸部的顶点之间的中心至凹部的距离B之比即B/A为0.5以上。(A)在表面具有羟基且平均一次粒径为50nm以上且380nm以下的金属氧化物粒子。(B)作为聚合性基团具有(甲基)丙烯酰基或仅由选自氢原子、碳原子、氮原子及氧原子中的原子构成的(甲基)丙烯酰基以外的聚合性基团,且在1分子中具有3个以上的聚合性基团且重均分子量为1000以下的化合物。(C)具有(甲基)丙烯酰基,且具有羟基及可水解的基团中的至少一种直接键合的硅原子,且重均分子量为300以上且1000以下的化合物。并且提供一种防反射膜、具有该防反射膜的偏振片、护罩玻璃及图像显示装置以及防反射膜的制造方法,防反射膜具有基材和含有粘合剂树脂及平均一次粒径为50nm以上且250nm以下的金属氧化物粒子的防反射层,金属氧化物粒子的表面的羟基量为1.00×10‑1以下,金属氧化物粒子的压痕硬度为400MPa以上,粘合剂树脂为具有羟基的树脂,防反射层在与基材侧的界面相反侧的表面具有由通过金属氧化物粒子形成的凹凸形状构成的蛾眼结构。 | ||
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【主权项】:
一种防反射膜,其具有基材和由含有下述A、B及C的防反射层形成用组合物形成的防反射层,所述防反射层含有包含来源于下述B的结构及来源于下述C的结构中的至少一种的粘合剂树脂,且在所述防反射层的与所述基材侧的界面相反侧的表面具有由通过下述A的金属氧化物粒子形成的凹凸形状构成的蛾眼结构,所述防反射层的凹凸形状中,相邻凸部的顶点之间的距离a与该相邻凸部的顶点之间的中心至凹部的距离b之比即b/a为0.5以上,A.在表面具有羟基且平均一次粒径为50nm以上且380nm以下的金属氧化物粒子;B.作为聚合性基团具有(甲基)丙烯酰基或仅由选自氢原子、碳原子、氮原子及氧原子中的原子构成的(甲基)丙烯酰基以外的聚合性基团,且在1分子中具有3个以上的聚合性基团且重均分子量为1000以下的化合物;C.具有(甲基)丙烯酰基、且具有羟基及可水解的基团中的至少一种直接键合的硅原子,而且重均分子量为300以上且1000以下的化合物。
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