[发明专利]光波分离网格与形成光波分离网格的方法在审
| 申请号： | 201580018587.1 | 申请日： | 2015-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN106170730A | 公开（公告）日： | 2016-11-30 |
| 发明（设计）人： | 丹尼尔·李·迪尔;曹勇;朱鸣伟;陈台周 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G02B27/10 | 分类号： | G02B27/10 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本文提供光波分离网格与形成方法。在一些实施方式中，光波分离网格包括：第一层，具有ROXNY的分子式，其中该第一层具有第一折射率；以及第二层，该第二层设置于该第一层顶上且与该第一层不同，该第二层具有R’OXNY的分子式，其中该第二层具有与该第一折射率不同的第二折射率，且其中R与R’各为金属或介电材料之一。在一些实施方式中，一种形成光波分离网格的方法包括：通过物理气相沉积工艺在基板顶上沉积具有预定期望折射率的第一层；以及于该第一层顶上沉积第二层，该第二层与该第一层不同，其中该第二层具有与该第一折射率不同的预定第二折射率。 | ||
| 搜索关键词： | 光波 分离 网格 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种光波分离网格，包括：第一层，具有ROXNY的分子式，其中所述第一层具有第一折射率；以及第二层，所述第二层设置于所述第一层顶上且与所述第一层不同，所述第二层具有R’OXNY的分子式，其中所述第二层具有与所述第一折射率不同的第二折射率，且其中R与R’各为金属或介电材料之一。
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