[发明专利]用于检查半导体晶片的X光检查设备在审
| 申请号： | 201580018595.6 | 申请日： | 2015-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN106164656A | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | 威廉·T·瓦尔克;西蒙·怀特 | 申请（专利权）人： | 诺信公司 |
| 主分类号： | G01N23/083 | 分类号： | G01N23/083;G01N23/04;G01N23/02 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 沈同全;车文 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种x光检查系统，包括：x光源(100)；用于支撑将被检查的样品的样品支撑件(200)；x光检测器(300)；包括用于使所述样品支撑件(200)沿第一轴线朝着和远离所述x光源(100)移动的第一定位机构(210)的样品定位组件(210)；被构造成提供所述x光源(100)和所述样品支撑件(200)上的样品表面之间的距离测量值的、被固定至所述x光源(100)的接近传感器(400)；以及被连接至所述接近传感器(400)的控制器(500)。能够在图像处理计算中使用来自所述接近传感器(400)的测量值，从而防止样品和所述x光源(100)之间的碰撞。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 检查 半导体 晶片 设备 | ||
【主权项】：
一种x光检查系统，包括：x光源；样品支撑件，所述样品支撑件用于支撑将被检查的样品；x光检测器；样品定位组件，所述样品定位组件包括第一定位机构，用于使所述样品支撑件沿第一轴线朝着和远离所述x光源移动；接近传感器，所述接近传感器被固定至所述x光源，所述接近传感器被构造成提供所述x光源和所述样品支撑件上的样品的表面之间的距离测量；以及控制器，所述控制器被连接至所述接近传感器。
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