[发明专利]膜形成设备、基板处理设备和装置制造方法

摘要

提供了：一种膜形成设备，所述膜形成设备改善通过喷射薄膜形成材料而在基板上形成的薄膜的膜厚度的均匀性；基板处理设备；以及装置制造方法。在基板(P)上形成薄膜的该膜形成设备(20)设置有喷射薄膜形成材料的喷嘴(54)和排出气体的排气单元(60)。排气单元(60)的排气口(60a)相对于基板(P)设置在与重力作用的方向相反的一侧。该基板处理设备(12)使用该膜形成设备(20)对基板(P)执行特定处理。该装置制造方法使用该膜形成设备(20)来制造装置。

主权项

1.一种膜形成设备，该膜形成设备被构造为在基板上形成薄膜，该膜形成设备包括：喷射单元，所述喷射单元被构造为喷射薄膜材料；以及排气单元，所述排气单元被构造为排出气体；其中，所述排气单元的排气口相对于所述基板设置在与重力作用的方向相反的一侧，并且其中，所述膜形成设备对相对于水平面在15°至75°的范围内倾斜的所述基板形成所述薄膜，所述水平面与重力作用的方向垂直；并且所述喷射单元喷射所述薄膜材料的喷射方向与所述排气单元排出所述气体的排气方向之间的角度差在75°以下。