[发明专利]感光性元件、层叠体、永久掩模抗蚀剂及其制造方法以及半导体封装体的制造方法有效
| 申请号： | 201580020045.8 | 申请日： | 2015-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN106233205B | 公开（公告）日： | 2020-06-23 |
| 发明（设计）人： | 名越俊昌;田中惠生;福住志津 | 申请（专利权）人： | 日立化成株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09;B32B7/02;B32B27/38;G03F7/004;G03F7/027;G03F7/029;H05K3/28 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣;陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种感光性元件，其是具备支撑膜、和设置在该支撑膜上且由感光性树脂组合物形成的感光层的感光性元件，其中，支撑膜的与感光层相接的面的表面粗糙度以Ra计为200～4000nm。 | ||
| 搜索关键词： | 感光性 元件 层叠 永久 掩模抗蚀剂 及其 制造 方法 以及 半导体 封装 | ||
【主权项】：
一种感光性元件，其是具备支撑膜、和设置在该支撑膜上且由感光性树脂组合物形成的感光层的感光性元件，其中，所述支撑膜的与感光层相接的面的表面粗糙度以Ra计为200～4000nm。
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