[发明专利]形成阵列的多个铁电场效晶体管及其形成方法有效
申请号: | 201580021286.4 | 申请日: | 2015-04-15 |
公开(公告)号: | CN106463510B | 公开(公告)日: | 2020-01-07 |
发明(设计)人: | 杜赖·维沙克·尼马尔·拉马斯瓦米;柯尔克·D·普拉尔 | 申请(专利权)人: | 美光科技公司 |
主分类号: | H01L27/1159 | 分类号: | H01L27/1159;H01L27/11597;H01L29/66;H01L29/78 |
代理公司: | 11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 路勇 |
地址: | 美国爱*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明揭示一种铁电场效晶体管,其包括半导电沟道,所述半导电沟道包括对置侧壁及高度上最外顶部。源极/漏极区域在所述沟道的对置末端处。所述晶体管的栅极构造包括沿着所述沟道顶部且横向沿着所述沟道侧壁延伸的内部电介质。内部导电材料高度上且横向从所述内部电介质向外且沿着所述沟道顶部且横向沿着所述沟道侧壁延伸。外部铁电材料高度上从所述内部导电材料向外且沿着所述沟道顶部延伸。外部导电材料高度上从所述外部铁电材料向外且沿着所述沟道延伸。揭示其它构造及方法。 | ||
搜索关键词: | 电场 晶体管 方式 形成 阵列 多个铁 以及 方法 | ||
【主权项】:
1.一种铁电场效晶体管,其包括:/n半导电沟道,其包括对置侧壁及高度上最外顶部;/n源极/漏极区域,其在所述沟道的对置末端处;及/n栅极构造,其包括:/n内部电介质,其沿着所述沟道顶部且横向沿着所述沟道侧壁延伸;/n内部导电材料,其高度上且横向从所述内部电介质向外且沿着所述沟道顶部且横向沿着所述沟道侧壁延伸;/n外部铁电材料,其高度上从所述内部导电材料向外且沿着所述沟道顶部延伸;及/n外部导电材料,其高度上从所述外部铁电材料向外且沿着所述沟道顶部延伸,/n其中所述外部导电材料、所述外部铁电材料及所述内部导电材料全部具有高度上从所述沟道向外的相对于彼此横向重合的至少两对两个横向对置垂直侧壁。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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