[发明专利]放大器系统中的电流限制有效
申请号: | 201580021293.4 | 申请日: | 2015-05-01 |
公开(公告)号: | CN106464219B | 公开(公告)日: | 2019-07-02 |
发明(设计)人: | D·大谷;K·凯 | 申请(专利权)人: | 德克萨斯仪器股份有限公司 |
主分类号: | H03F3/45 | 分类号: | H03F3/45 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵志刚;赵蓉民 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 在所描述的示例中,放大器系统(10)包括被配置为响应于输入电压(VIN)传导增益电流的增益级(14)。系统(10)还包括耦合到增益级(14)并且被配置为作为拉电流流出和/或作为灌电流流入增益电流并且在电流限制条件期间限定增益电流的极限幅值的限流级(22)。系统(10)进一步包括耦合到增益级(14)并被配置为响应于增益电流通过输出节点(20)传导输出电流的输出级(18),输出电流在电流限制条件期间具有与极限幅值成比例的最大幅值。 | ||
搜索关键词: | 放大器 系统 中的 电流 限制 | ||
【主权项】:
1.一种放大器系统,包括:第一增益级,其被配置为响应于输入电压传导增益电流;参考级,其提供第一参考电压和第二参考电压;限流级,其耦合到所述第一增益级并且被配置为作为拉电流流出和/或作为灌电流流入所述增益电流,所述限流级包括配置为承载恒定电流的电流源,所述恒定电流限定所述增益电流的极限幅值;所述增益级包括被配置为交叉耦合晶体管布置的多个晶体管,所述交叉耦合晶体管布置被配置为在作为灌电流流入电流限制条件期间作为灌电流流入通过所述交叉耦合晶体管布置的第一对晶体管的所述增益电流,并且在作为拉电流流出电流限制条件期间作为拉电流流出通过交叉耦合的晶体管布置的第二对晶体管的所述增益电流,所述第一对晶体管的第一晶体管由所述第一参考电压控制,并且所述第二对晶体管的第一晶体管由所述第二参考电压控制,并且其中所述第一对晶体管的第二晶体管和所述第二对晶体管的第二晶体管由所述输入电压控制;包括第一增益级电流镜和第二增益级电流镜的第二增益级,其中所述第一对晶体管的所述第一晶体管耦合到所述第一增益级电流镜,并且所述第二对晶体管的所述第一晶体管耦合到所述第二增益级电流镜;以及输出级,其耦合到所述第一增益级电流镜和所述第二增益级电流镜,以便所述增益电流经由所述各自的第一增益级电流镜和第二增益级电流镜控制所述输出电流的幅度,所述输出电流在所述电流限制条件期间具有与所述极限幅值成比例的最大幅值。
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